9?2?3射频溅射 9?3大电极磁控溅射
9?4“0”气压溅射的期待——超微细深孔的嵌埋 9?4?1准直溅射 9?4?2长距离溅射 9?4?3高真空溅射 9?4?4自溅射
9?4?5离子化溅射 9?5 溅射的实例
9?5?1钽 （Ta）的溅射
9?5?2Al及其合金的溅射（超高真空溅射）
9?5?3氧化物的溅射：超导电薄膜和ITO透明导电薄膜 9?5?4磁性膜的溅射
9?5?5光学膜的溅射 （RAS法） 参考文献
第10章 气相沉积CVD和热氧化氮化 10?1热氧化
10?1?1处理方式 10?1?2热氧化装置 10?1?3其他氧化装置 10?2热CVD
10?2?1主要的生成反应 10?2?2热CVD的特征 10?2?3热CVD装置 10?2?4反应炉
10?2?5常压CVD（Normal Pressure CVD, NPCVD） 10?2?6减压CVD（Low Pressure CVD, LPCVD）
10?3等离子体增强CVD （Plasma Enhanced CVD, PCVD） 10?3?1等离子体和生成反应
10?3?2装置的基本结构和反应室的电极构造 10?4光CVD（Photo?CVD）
10?5 MOCVD（Metalorganic CVD） 10?6金属CVD 10?6?1钨CVD 10?6?2Al?CVD 10?6?3Cu?CVD
10?6?4金属阻挡层（TiN?CVD）
10?7半球状颗粒多晶硅CVD（HSG?CVD） 10?8高介电常数薄膜的CVD 10?9低介电常数薄膜
10?10高清晰电视机的难关，低温多晶硅膜（Cat?CVD） 10?11游离基喷淋?CVD（Radical Shower CVD，RS?CVD） 参考文献 第11章刻蚀
11?1湿法刻蚀
11?2等离子体刻蚀，激发气体刻蚀 （圆筒型刻蚀） 11?2?1原理 11?2?2装置
11?2?3配套工艺
11?3反应离子刻蚀、溅射刻蚀（平行平板型，ECR型，磁控型刻蚀） 11?3?1原理和特征 11?3?2装置
11?3?3配套工艺
11?3?4Cu和低介电材料（low K）的刻蚀 11?4大型基板的刻蚀
11?5反应离子束刻蚀，溅射离子束刻蚀（离子束型刻蚀）
11?5?1极细离子束设备（聚焦离子束：Focused Ion Beam, FIB） 11?6微机械加工
11?7刻蚀用等离子体源的开发 11?7?1等离子体源
11?7?2高密度等离子体（HDP）刻蚀 参考文献
第12章精密电镀 12?1电镀
12?2电镀膜的生长
12?3用于制作电子元器件方面的若干方法 12?4用于高技术的铜电镀 12?5实用的电镀装置示例 参考文献
第13章平坦化技术
13?1平坦化技术的必要性 13?2平坦化技术概要 13?3平坦薄膜生长 13?3?1选择性生长
13?3?2利用回填技术的孔内嵌埋（溅射） 13?3?3利用氧化物嵌埋技术的平坦化 13?4薄膜生长过程中凹凸发生的防止 13?4?1偏压溅射法 13?4?2剥离法
13?5薄膜生长后的平坦化加工 13?5?1涂覆
13?5?2激光平坦化 13?5?3回填法 13?5?4回蚀法
13?5?5阳极氧化和离子注入 13?6嵌埋技术示例
13?7化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）技术 13?8嵌刻法
13?9平坦化新技术展望
13?9?1使用超临界流体的超微细孔的嵌埋技术
13?9?2用STP（Spin Coating Film Transfer and Pressing）法的嵌埋技术 13?10高密度微细连接 参考文献
作 者：[日]麻蒔立男
出版社：化学工业出版 出版日期：2009年5月 开 本：16开 册 数：1册 光盘数：0
定价：39.8元
优惠价：36元
本店订购简单方便，可以选择货到付款、汇款发货、当地自取等方式 全国货到付款，满200元免运费,更多请登陆文成图书。