3.废气洗涤废水
直接排放－洗涤制程所排放的废气之水，均直接排放至处理厂。
至于其处理的程序及步骤，可由图四说明之。下文为其各项之说明：
1.HF浓废液：
此废液至处理系统后，添加NaOH提升pH值至8～10之间，注入CaCl，Ca(OH)与HF反应向生成CaF污泥，即
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HF+CaCl + Ca(OH)←CaF + HCl + HO的反应式。藉此去除氟离子之浓度量，而CaF污泥产物与晶圆研磨废液混合，且添加Polymer（高分子）增进其沈降
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性，以利CaF污泥经脱水机挤压过滤。污泥饼则委托代处理业者处理。另一产物HCl酸气由处理厂废气洗涤后排放，污泥滤液则注入调节池。
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2.一般废水：
包括HF洗涤废水，酸／碱性废水。经水系统树脂塔再生废液，废气洗涤废水等进入调节池混合均匀，稀释后泵入调整池中，添加NaOH，HSO等酸碱中和剂，
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将之调整为6.0～9.0的pH值范围后放流入园区下水道。
3.回收处理单元：
a.有机废液回收－将IPA溶剂、显影液及浓硫酸废液等独立收集，并委外处理。
b.浓缩液回收再利用－纯水系统设备产生之浓缩液，除供应原系统反洗，再生用外，更可补充大量飞散之冷却用水，如此不但降低排水量，亦可节省用水量。
c.纯水供应系统回收水－目前纯水供应系统可直接回收70%至纯水制造系统，另将制程之洗涤水回收以供冷却系统及卫生用水，此部份占20%，因此，纯水供应
系统回收水已可达90%。
d.碱性再生废液－纯水系统碱性再生废液收集应用于废水处理系统之pH值调节用，如此可减少化学药剂之使用量。
(2)废气处理系统
废气产生的设备约有离子布值机，化学清洗站，蚀刻机，炉管，溅镀机，有机溶剂与气瓶柜等，其中有较高浓度污染的废气均先由该机台所属的Local Scrubber
（局部洗涤机）先行处理后，在经由全厂之中央废气处理系统做三次处理后，再排入大气中，以达到净化气体之功能，其架构示意如图五说明。
晶圆厂的废气常含有酸，碱性或腐蚀性，故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性或腐蚀性，故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性，抗蚀性，甚至耐高温及防水性等，故表八乃将常用材质及使用种类整理归纳。而其废气处理种类及方式如下：
1.一般性废气，其来源为氧化扩散炉的热气，烤箱及干式帮浦的排气，此废气可直接排放至大气。
2.酸、碱性之废气，来源为化学清洗站，具刺激性及有害人体。故一般以湿式洗涤塔做水洗处理后再排入大气。洗涤塔利用床体或湿润的表面可去除0.1微米
以上的粒子。其气体与液体的接触方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三种，而水流的设计上，有喷嘴式，喷雾式，颈式及拉西环式等四种。
3.有机溶剂废气通常使用吸附式处理，其常用之吸附剂为活性碳，饱和后可以更换或以再生方式处理。
4.含毒气性废气，其来源为化学气相沈积，干蚀刻机，扩散，离子布值机及磊晶等制程时所产生。在经机台本身的局部洗涤机的处理后，其后段的处理方法有
吸附法，直接燃烧法及化学反应法等数种。尤其是薄膜成长和磊晶制程时SiH气体，须特别注意，因其为一俱爆炸及可燃性的气体。所以单独配管且先经一密
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闭坚固的燃烧室(Burning Box)，内通空气稀释SiH至可燃之浓度，令它先行燃烧后再经湿式洗涤塔处理后排出室外。其反应方式为：
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SiH + 2O←SiO （粉末） + 2HO 4222
其中SiO粉末须定期清洗，以免污染及堵塞管路系统。另可采用KOH水溶液做为循环液系统，利用二者反应去除SiH，反应式如下：
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SiH + 2KOH + HO←KSiO + 4H 42232
再经湿式洗涤塔处理后排出。其它一些常用的毒性气体，如AsH,PH, BH亦可以此类化学反应处理。
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6.电力，照明及冷却水的配合
此三项系统在生产流程上的配合，一般都不容易察觉，但一有状况，往往都有立即且严重的影响；因他们似乎很少发生问题，就如同空气一般的普遍。不过由于资源的不足，常会有临时限电，限水的事件发生，所以在电力供应系统方面，都会设置不断电系统及紧急电源以备不时之需。同时为了消除漏电的状况，通常会设计安置一共同的接地电网，用来保障机器设备及人员的安全。照明系统亦甚为重要，无论平时或紧急照明装置，都需保持明亮及舒适，否则容易影响工作的情绪及效率。另在冷却水的供应上，亦必须慎重，诸如出水的压力，温度及流量都必须适当，不然即会对设备造成影响，甚至当机。同时其水质的纯度，导电度以及防锈的预防亦须留意，尤其在配备高周波电磁场的机台冷却上，更为重要。这些设备如射频溅镀机，电子回旋共振蒸镀或蚀刻设备，和电浆强化化学蒸镀或蚀刻机等。
当冷却水的导电镀增加时，即会造成漏电的效应而影响机合的操作参数；若防锈不良会造成管路生锈，堵塞等现象，以致影响冷却的效果，造成设备的损伤。
7.洁净室隔间，及相关机房，系统的营缮支持工作
洁净室的空间规划，一般在建厂之初统一设计完善；但由于技术层次不断地提升，因此机台设备，生产流程必须随时跟上半导体技术世代的演进。于是新设备进出洁净室的事件亦常有之，此时，就必须安排隔间工程，电力，气体供应，甚或排气，排水等架设；于是需要一组系统营缮的支持人员资以配合。而负责此项工作的人员须对整个洁净室的结构，特性，有相当程度的熟悉方可胜任。
8.监控、辅佐事故应变的机动工作
一座洁净室的运作通常都是每天24小时不停歇的，所以必须要有人员随时地监控整个系统，包括空调的温湿度，气体或化学品的供应，废水及废气的处理；…
等等，如此方能确保厂区的安全与正常的运作。
事实上，实验室可能出现一些紧急或危险的事故，例如：毒气外泄，火警，停电…等等，此时必须要有紧急应变的处理人员予以处理，且通知人员做适当的应变或疏散，俾能降低损失。至于这些人员的挑选及训练都必须事前做好规划，而且必须经常提供适当的训练及演习，方能在紧急状况发生时确保己身的安全下，做到厂区安全维护及灾害救援的任务。
三、厂务工作的未来方向
一个健全完整的厂务工作必须达到下述几个目标：
1.安全考虑：
从设计时的事先预防规划开始，到安装有效的侦测系统，及最后的紧急事故之解决与扑灭上，都需全面顾及。
2.环境顾虑：
即减少对环境的影响，所以应具体检讨生产流程，做到工业减废，使废水，废气及废弃物减量，另再进行回收或再生。
3.可靠要求 ：
由增设备份设备及确定做到预防保养的方式，来提高各系统的可靠性。
4.稳定度的达成
厂务系统的稳定性为提高产品良率之必要因素，因此，举凡环境的温度高低，纯水质量，电压质量及气体或化学品的供应，均需保持甚高之稳定性。
5.质量的提升：
良好的厂务系统质量可使生产或研发单位无后顾之忧，尤其0.18μm以下的技术世代后，各系统之规划设计均以知识的极限来考虑，如以ppt(10M-12为兆分之
一)的单位来评估超纯水及气体的不纯度。因此，避免可能的污染，以提高厂务系统的质量，进而确保产品的质量。
6.弹性的因应：
厂区的弹性化设计，乃因应日新月异的制程发展及生产设备异动的不二法门，也是延续工厂寿命及年限的方法。
7.人性的诉求：
人为高科技产业最大的资产，故人性化的考虑乃新厂规划中不可或缺的一环。
四、结语
厂务的工作是一项幕后，支持性的工作，但其重要性绝不亚于场区任一部门；甚且在压力的承受上，更是过之而不及。但在具体的成果和绩效的呈现上，都是较软弱的一环，于是造成厂务的工作同仁有些莫名的情绪与反应。因此，如何从工作中体念自身的重要性与成就感，进而提升自己的专业技能及对此项工作的认同感，除了扮演厂务幕后英雄的角色外，更能担任先进技术开展的积极辅佐角色。因此，清楚自己事业生涯的定位与规划，愉快而安定从事自己选择的工作，进而提供一稳定，可靠的半导体场区环境，俾能含蕴更完满、先进的半导体科技。
参考数据
1. 林茂勋，电子月刊，1997，26期。
2. 李茂己，电子月刊，1998，33期。
3. 李仁富，电子月刊，1997，26期。
4. 高爱扬，电子月刊，1997，26期。
5. 彭振国，王白云，电子月刊，1997，26期。
6. 张俊彦，电子月刊，1997，26期