去铝层时反应很慢，这是因为在氧化铝模板背面—剩余铝材的表面的形成了致密性氧化膜所致，可以用加热到60℃的20Wt%氢氧化钠溶液来除去氧化层和清洗表面。这样反应速度可大大加快。同时，我们还尝试了用双电极制备AAO模板来克服上述问题，具体过程将在3.2.3节中详细叙述。
去阻挡层：通过上述步骤，模板的规则孔洞已经形成，模板背面剩余的铝材也已除去。形成了单面通孔的AAO模板（如图3.6a所示），此时已可用于某些实验研究。如需得到双通模板，就需要除去模板背面的阻挡层（如图3.6b所示）。
图3.6 AAO模板去阻挡层示意图
a
去阻挡层
b
去阻挡层用质量分数为5%的H3PO4溶液除去氧化过程中形成的阻挡层，去阻挡层的同时也将模板的孔洞扩大并将模板减薄，所用时间因模板的阻挡层厚度不同而有所不同，一般为1～3h，最后将模板取出水洗风干就得到了利用二次阳极氧化法制备的双通阳极氧化铝模板。