■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 11 / 13 5.4.6温度图况 系统图况元器件名称(见下页分布) 1. N2阀 6后氨气输出 11.炉门关 16.CDA手动阀 B.管内低压，超压指示 C.全真空压力计 D.薄膜硅压力E.平移马达H.炉体5点温0—2000mbar 计 位置显示 度 0—10000mtor 5.4.7曲线图况 5.4.8历史曲线 5.5 工艺流程：每个工艺程序通过工艺参数预先设定工艺流程，如加热速度和冷却速度、工艺温度、气体和气体流速、停顿时间等。以下是一个典型的步骤序列概览：
2. N2常闭 3后硅烷旁4后硅烷输出 5后氨气旁路 路 7前硅烷旁路 8前硅烷输9前氨气旁路 10前氨气输入 入 12.炉门开 17.排气阀 13.N2手动14.SiH4手动15.NH3手动阀 阀 阀 18.主抽阀 19.蝶阀 A.射频电源 X. N2流量计 Y. SiH4流Z. NH3流量计 F.上下马达位置 量计 G工艺倒计时显示 GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 12 / 13 5.5.1 炉装料过程：工艺舟装上了硅片后与桨一起移入工艺炉管中。工艺舟下降然后桨移出工艺炉管，工艺炉管关闭。 5.5.2 抽空：工艺炉管中的全部气体被真空泵抽空。 5.5.3 N2 清洁/抽空循环：重复执行一个清洁/抽空循环。循环次数、时间、氮以及工艺炉管中所需压力均保存在工艺程序中。用抽空结束过程。在此期间，工艺炉管中的温度受控制，并被设定到温度设定值 5.5.4 反应阶段：工艺炉管注入工艺气体。调节到设定的温度及等离子状态，硅片上发生所需的反应。在工艺过程中，工艺气体按设定的时间长度输送入工艺炉管中。流经工艺炉管后，工艺气体被导入一个气体抽排系统。从那里再输入到外部抽排系统中工艺炉管中所需压力均在工艺程序中设定。用 N2 清洁结束过程。 5.5.5 N2 清洁/抽空循环：重复执行一个清洁/抽空循环。循环次数、时间、氮以及硅烷 5.5.6 炉卸料过程：装卸机将桨移入工艺炉管，并抬升装有硅片的工艺舟。桨被移出工艺炉管。 5.6真空泵的参数设置 5.6.1 770H：真空泵运行时间用于泵维护时的时间记录 5.6.2 REM：真空泵在远程监控， 5.6.3 如显示LOC：本地控制状态 5.6.4 ADP POWER：ADP泵功率 5.6.5 PRESSURE：排气口附近气压 5.6.6 ADP TEMP：ADP泵温度 5.6.7 N2 FLOW N2流量
GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 13 / 13 5.7开/关机作业程序 5.7.1开机作业程序 5.7.1.1开机时机：于设备计划保养维修后或不正常关机后 5.7.1.2开机动作： 5.7.1.2.1打开设备所需的气体并检查抽风、确认； 5.7.1.2.2打开设备所需的冷却水并确认； 5.7.1.2.3打开设备电源； 5.7.1.2.4打开CMI控制电脑； 5.7.1.2.5升温； 5.7.1.2.6待机； 5.7.2关机作业程序 5.7.2.1关机时机：于设备计划保养维修前或异常需求前； 5.7.2.2关机动作： 5.7.2.2.1将设备上产品全部清空并使设备处于待机状态； 5.7.2.2.2降温 5.7.2.2.3关闭各面板电源； 5.7.2.2.4关闭各控制开关； 5.7.2.2.5关闭冷却水，设备所需气体; 5.7.2.2.6闭电源总开关。 6.参考文件 无 7.附件 无
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