年平均降水量 538mm 年均无霜期 206d 平均风速 2.7m/s 最大风压 93kg/m2 主导风向 S、NNE （四）地震烈度
本工程所在地区地震基本烈度为7度，拟建建（构）筑物按相应抗震等级设防。
（四）物料供应 1、优质玻璃原片
本项目年需4?19mm厚度优质浮法玻璃总计880万m2，采用当地浮法玻璃。
2、靶材
Low-E镀膜生产线年需要银、钛、锡、锌、硅等靶材130套，拟从上海购进。
3、工作气体
镀膜生产中所用的三种气体为氧气、氩气、氮气，年需氧气、氩气和氮气，拟从石家庄特种气体有限公司购进。
4、结构胶：生产年需结构胶615t，拟在国内市场采购。 5、丁基胶
生产中空玻璃所需的丁基胶年用量分别为43t，拟在国内市场采购。 6、分子筛：年需分子筛190t，拟在国内市场采购。
7、生产需用铝材制成铝间隔框，铝材用量176t，国内市场采购。 8、其他辅助材料
生产所需辅助材料，拟在国内市场采购。
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（五）供电
全厂总电设备装机功率约6685kW，其中使用负荷约6345kW，正常生产时10kV侧计算负荷约4016kW，因数为0.8，折算年耗电量约2313×104kW.h。
（六）给排水 1、生产及生活给水
根据用水负荷计算，项目总用水量：3942.3m3/d 其中：其中生活及生产直流用水量为163.4m3/d，循环水量为3779.2m3/d，循环使用率为97.14%。年实际用水量51471吨。
2、排水
生活污水、生产废水和雨水采用分流制，生活污水经化粪池处理后，排入生活污水管网；生产废水排入生产废水排水管网，其中车间冲洗地面废水经沉淀池处理后排入厂区生产废水排水管网。最终汇总后排入市政污水管道。
四、技术方案与主要设备选型 （一）技术特征
本项目Low-E镀膜机组等采用具有国际先进水平的技术与装备，可确保玻璃产品满足市场的要求。
（二）建设规模与产品质量 1、建设规模
Low-E镀膜玻璃 800万m2/a 2、年工作日 300d （三）生产工艺及设备选型
1、主要生产技术指标 LOW-E镀膜玻璃
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① 生产方法：连续磁控溅射（真空和磁场） ② 膜系特征：TiO2/ZnO/Ag NiCr/ Si3N4
③ 基本配置：不少于 25个阴极溅射靶位（预留三银LOW-E靶位）
④ 生产周期：40S~50S 2、产品特点
LOW-E镀膜玻璃：通过在玻璃原片上镀若干层金属、化合膜形成的表面改性玻璃。对阳光的可见光部分有较高的通透率，而对远红外线部分有较高的阻挡率。其产品可使室内的热量传不出去，减少热交换，做到夏天隔热，冬天保暖，又不影响室内采光。多年以来欧洲传统的LOW-E膜的膜面都以SnOX为基面的，随着使用C-Mag阴极系统，只要增加一个薄的SiNx膜膜系，就可具有较高的耐磨性，Si3N4基膜玻璃是据此开发的可钢化LOW-E玻璃。
3、生产工艺流程
LOW-E镀膜玻璃工段生产工艺流程：
本建设工程采用阴极磁控溅射法生产镀膜玻璃，一般只允许使用四个星期以内的新鲜优质浮法玻璃原片。玻璃原片运至镀膜工段后，通常用人工操纵的真空吸盘装置将玻璃片从箱中（或垛架上）取出并放置上片输送辊道上并由程序控制将其送入入口洗涤干燥机内进行清洗干燥处理。洗涤分预洗、清洗、自来水漂洗和去离子水标洗四个步骤完成以保证洗涤质量。洗涤干燥完成后，玻璃片被送入入口准备输送机上，在此进行人工视检。视检合格后玻璃片接着被送入入口锁闭室。然后通过锁闭阀将锁闭室关闭，抽真空系统工作将锁闭室的真空度抽至与镀膜室的真空度一致然后打开锁闭室出口锁闭阀将玻璃片送入镀膜室进行镀膜。 镀膜室由入口缓冲段（包括入口等待段）、溅射室、出口缓冲段（包括出口等待段）几部分组成，各段之间都设有锁闭阀可以单独锁闭以便可以进行抽真空处理。镀膜完成后玻璃片被送入出口锁闭室进行压力处
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理，当出口锁闭室压力处理到与大气压相同时，出口锁闭室打开，玻璃片被送出并进入到出口洗涤干燥机内再一次进行洗涤干燥处理。其作用是对镀膜后的玻璃清洗以暴露镀膜缺陷，为下一工位在线质量检测提供必要的条件。
在线质量检测是在暗室内借助透射率、反射率测量仪来完成的。玻璃从检验站出来后送至下片输送辊道上，由人工用活动真空吸盘装置将合格的镀膜玻璃包装装箱，然后运至成品库，即完成一个生产周期。
可钢化SixNy/TiOx系低辐射玻璃：玻璃原片切磨并经过仔细清洗后，进入真空镀膜机镀低辐射（LOW-E）膜层。玻璃通过过渡室进入镀膜室先镀第一透明层，然后镀ZnO膜，接着镀Ag功能层，之后再镀SixNy/TiOx耐热膜和第二透明层。镀完膜后的玻璃经过渡室出片。
整个生产过程是由计算机控制自动进行的。 镀膜工艺流程框图如下：
原片前处理 入端锁室
4、主要设备选型 LOW-E镀膜玻璃生产线
镀膜生产设备的技术关键为溅射电源的稳定性、工件的平稳传动、溅射阴极的稳定性、真空室体的尺寸大小、工艺气氛的均匀性。由国外购置引进的镀膜设备主要包括以下几个系统：真空系统、充气系统、布
缓 冲 室 转 换 室 镀介质膜 出端锁室 检 验 镀NiCr膜 镀介质膜 镀Ag膜 转换室 镀ZnO膜 缓 冲 室 其他工序 7
气系统、阴极溅射系统、冷却系统、控制系统、传动系统、电源系统。其它设备的选型均以与镀膜机配套为基本原则。作为真空镀膜设备辅助设施还包括纯水系统（供清洗用）、清洗生产线（对基片进行清洁处理，以达到真空镀膜要求）、空压机、检测设备和装卸片系统等由国内配置。 主要工艺设备详见工艺设备表。
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