第二篇 Silvaco软件使用指南
Figure 8: 设定上边界.
Figure 9: 设定下边界.
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Figure 10: 完成Y方向设定。
点击图10的write按钮，就把数据写入到athena中了。运行deck如图11所示.
Figure 11: 在运行的deck中完成mesh语句.
现在我们需要初始化2-D网格到半导体类型和掺杂中。在本例中, [100] 硅，每平方电阻为10 ohms. 在命令的弹出菜单上右击并选择 mesh initialize.一个菜单如图12显示.如图12来填充.
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Figure 12: 初始网格
图中所选内容是硅片方向为(100),掺杂杂质为磷，以电阻为主要的浓度考虑，阻值为10欧姆。维数为自动选择，格点缩放因子为1。点击write进行写入， 将看到所运行的deck,如图13.
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Figure 13: 初始化运行deck.
现在通过右击File... Save保存你运行的deck, 填写弹出菜单如图14.
回到deckbuil后，如图15所示。点击run. 你会遇到一个错误，说你超出了点的最大数目。即使仿真器可以处理这个点数，它也会用过长的时间来做仿真。
改变y 的spacing 为0.2, 并再次运行deck.此时将不会再有错误。
Figure 14: 保存文件
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Figure 15:初始化运行deck.
Figure 16:改变 y spacing 到 0.2.
Figure 17: 初始化Deck的输出文件.
要抽取层的薄片电阻，Commands... Extract 则一个弹出菜单如图18显示出来。