重大关键核心技术研发项目资金申请报告
项目名称 高端微纳光刻装备研发与产业化 项目承担单位 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 项目负责人 陈林森 联系电话 0512-62868882-826
项目主持部门 江苏省发展和改革委员会 申报日期 2015年3月11日
江苏省推进战略性新兴产业发展工作领导小组办公室
二○一五年一月
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目录
一、项目的背景和必要性............................................................................................ 3
（一） 国内外现状： .......................................................................................... 3 （二）技术发展趋势： ........................................................................................ 5 （三）拟解决的关键技术和问题： .................................................................... 6 （四）对产业发展的作用与影响： .................................................................... 7 （五）市场分析： ................................................................................................ 8 二、项目法人基本情况................................................................................................ 9 三、项目的技术基础.................................................................................................. 13
（一）成果来源及知识产权情况 ...................................................................... 13 （二）产学研合作情况 ...................................................................................... 15 （三）已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限 .................................. 17 （四）技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势 .............. 22 （五）重大关键技术突破对行业技术进步的重要意义和作用 ...................... 24 四、项目建设方案...................................................................................................... 26
（一）建设的主要内容、建设规模 .................................................................. 26 （二）工艺技术路线与技术工艺特点 .............................................................. 27 （三）设备选型及主要技术经济指标 .............................................................. 28 （四）产品市场预测 .......................................................................................... 30 （五）建设地点、建设周期和进度安排、建设期管理等 .............................. 32 五、项目投资.............................................................................................................. 34
（一）项目总投资规模、资金来源、投资使用方案 ...................................... 34 （二）资金筹措方案 .......................................................................................... 35 六、项目财务分析、经济分析及主要指标.............................................................. 36
（一）财务分析 .................................................................................................. 36 （二）风险分析 .................................................................................................. 38 （三）经济效益分析 .......................................................................................... 39 （四）社会效益分析 .......................................................................................... 39 八、资金申请报告附件.............................................................................................. 41
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本项目符合《江苏省“十二五”培育和发展战略性新兴产业规划》中产业发展重点：（七）高端装备制造产业 -智能制造装备，同时也是（二）新材料产业中的上游核心设备，负责工艺流程中前端制程，具有关键支撑作用。
一、项目的背景和必要性
国内外现状和技术发展趋势，拟解决的关键技术和问题，对产业发展的作用与影响，市场分析。
（一） 国内外现状：
高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半导体、MEMS、生物芯片、精密电路、平板显示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必要设备。
目前，一场新型柔性功能材料的革命性改变正在发生：超薄柔性材料的功能化，成为推动行业发展的革命性力量，使得精密加工制造技术向微米-纳米结构和智能制造发展。随着移动互联的高速发展，便携、可穿戴光电子器件需要进一步解决节能、低成本问题。
柔性电子制造领域国家计划与政府投入：美国FDCASU计划、在2012年美国“总统报告”中将柔性电子制造作为先进制造11个优先发展的尖端领域、2012年NASA制定柔性电子战略、2014年成了柔性混合电子器件制造创新中心；欧盟（第7研究框架、地平线计划）的印刷技术在柔性塑料基底上进行制备、英国（“抛石机”计划、建设英国的未来计划）将塑料电子作为制造业主要发展领域；德国投资数十亿欧元建立柔性显示生产线；韩国《韩国绿色IT国家战略》2010年投资720亿美金发展AMOLED；日本TRADIM计划在2011年成立先进印刷电子技术研发联盟；我国电子信息制造业“十二五”发展规划，新型显示器件、太阳能光伏等作为发展重点方向，国家自然科学基金12-5、13-5规划中将
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柔性电子作为微纳制造重要研究领域。
柔性光电功能材料具有数以千亿计的潜在市场需求。在下一代裸眼3D显示、大尺寸柔性触控屏、OLED照明的纳米衬底、可穿戴电子器件，具有微米级线宽-纳米结构，现有的光刻设备达不到这种精度加工的要求。
微纳光刻装备是高端技术密集型微纳产业中的核心设备，负责工艺流程中前端制程。这些产业的发展，离不开微纳光刻装备。高端微纳光刻设备，对于科学研究中的工艺试验研究、新品研发、产品生产，实现跨越发展都具有重大意义。
目前高端微纳光刻装备领域的研发和产业化工作开展较好的公司在国外，如德国Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美国Applied Material，能够对市场需求和设备研发制造形成良性的循环，另外，韩国、日本等一些研发型公司也在进行该项工作的推进。
我国科研院所在微纳光刻领域的研究，主要模式是采购国外科研型设备，进行工艺和器件的开发，对高端装备技术的研究开展较少。
国内产业环境的发展，产品创新对高端微纳直写光刻与加工装备具有大量需求；与国外企业相比，在技术沟通、服务响应能力方面具有优势；国内还缺乏“微纳级别”的高端智能激光直写光刻装备的研发与制造企业，苏大维格公司通过国家863计划的重点项目的资助，掌握了微纳直写装备的核心技术，拥有人才团队，依托于国家发改委批准的“国家地方联合工程研究中心”，公司在高端微纳智能装备的研发具有，同时公司也是创业板上市公司在产业化上也有优势。
值得一提的是，本公司（苏大维格）在国家863计划和江苏省攀登计划支持下，在高端微纳光刻设备的研发上卓有成效，积累了若干光机电关键技术，激光智能SLM干涉直写仪器等设备填补行业空白，在100nm特征尺寸的直写系
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统上，研发成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化的仪器设备，具有行业领先水平，在国内著名高等研究院所应用，并出口日本、以色列等国。获2011年国家科技进步二等奖，省科技进步一等奖。
（二）技术发展趋势：
微纳米技术产业作为先导性领域，对我国新兴产业的创新发展中具有不可或缺的先导作用，高端微纳光刻装备是进行微纳技术的科学研究、新器件、新功能材料的研发与应用的核心仪器，具有关键支撑作用。
举例说明，“光电转换效率提升”是新型光电器件（LED，太阳能、新型照明、低耗能材料）研究的核心问题，除了材料自身的光电特性之外，微纳结构分布与高效制备是推进高性能器件研制的重要方向，例如，在LED领域，纳米图形化技术是提升器件发光效率的重要途径，目标达到每瓦150流明以上，纳图形理论和实验研究是重点领域；薄膜太阳能电池的效率提升需纳米陷光结构衬底的制备；在平板立体显示领域，纳米线栅结构、3D位相延迟片偏振片、滤光片是提升显示光能利用率的重要研究方向；在光电子、微机电系统器件等科学研究领域，需要有高分辨、高效、3D曝光的多功能图形化手段和检测仪器，尤其在大尺寸纳米结构器件的无损检测是急需解决的重大问题；在国防领域，超大幅面光栅的研制，需要有更好的检测仪器。在纳米印刷研究和开发领域，高端图形化与检测是提供无油墨纳米色彩图像品质的必由之路。因此，该类型的高端微纳图形化仪器设备的研制，可打破国外技术垄断，具有重大战略意义。
微纳图形直写与检测仪器设备的研制，对于科学研究中的工艺试验研究、新品研发中的图形快速制备与检测，实现跨越发展具有重大意义。
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