（三）拟解决的关键技术和问题：
1. 紫外大视场平场成像光学系统研制：
光学系统是微纳光刻装备的基础性关键部件，对装备的总体性能具有重要影响。针对各种不同影响，设备的光学系统将做相应的设计和研制。本公司在紫外位相-空间混合调制的微纳光学系统具有自主知识产权，是高效微纳米图形光刻的有效解决手段。
2. 自动化多轴控制技术：
基于可编程多轴控制器的自动化控制技术，是精密光刻设备运行的关键技术。通过编写程序实现设备光、机、电的协调运行，实现设备的预期功能。控制技术包含了同步曝光技术、数据分割和上载技术、图像处理技术、高速多轴平台闭环控制技术等。本公司在基于PMAC、ACS等的控制器的控制技术有了长期研发基础，研发了飞行曝光技术、Z-校正自动聚焦技术、积分曝光技术等，为设备功能多样化开发积累了经验。
3. 微纳数据处理技术：
大幅面微纳结构图形的数据是海量的，例如，以数据解析分辨率为0.25um计算，1000mm×1000mm图形的数据量将达到16TB。
微纳结构数据，采用具有行业共性的GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。
数据处理技术，流程是：数据格式转换---数据图形化---图形数据切割和组合。光刻是数据分批分队列上载到光刻设备，通过控制软件将图形光刻输出。
4. 工艺开发和优化：
针对具体应用方向，需要对光刻工艺进行探索和研究，通过测试和分析结果，
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对工艺的控制参数、部件参数进行优化，最终满足应用需求。
（四）对产业发展的作用与影响：
“十二五”期间，国家和江苏省鼓励新兴产业发展，江苏省及苏州地方将纳米技术产业作为主导发展产业，迫切需要研究并解决产业发展中缺乏上游微纳制造技术的共性问题。2014年，国家发展改革委深入贯彻落实创新驱动战略，以加快经济结构战略转型为主攻方向，以改革创新促发展，切实推动高技术产业和战略性新兴产业平稳健康发展。其中的一个重点就是深入推进新型平板显示、高性能医学诊疗设备等重大创新发展工程建设，扩大节能环保、信息惠民、卫星导航、智能制造等领域的示范应用，重点突破深刻影响产业发展的关键核心技术，推动传统产业改造升级，加快培育新的经济增长点。高端微纳光刻装备是上述领域上游所需的核心设备，具有关键支撑作用。
中国版工业4.0规划－《中国制造业发展纲要(2015~2025)》即将于2015年出台。作为牵头制定中国制造业2025规划的部门，工信部已着手研究制定装备制造领域相关专项规划，规划重点实施领域为新一代信息技术产业、生物医药与生物制造产业、高端装备制造产业、新能源产业等四大产业领域。
本项目突破大尺度幅面、纳米结构及纳米精度、微纳结构器件与材料的低成本制造关键技术，开发高端微纳制造装备，满足提升产业创新能力，促进区域经济发展方面的需求，建设微纳结构器件功能设计、微纳米柔性制造关键技术与装备、材料应用及加工检测创新平台。对区域纳米技术创新体系的完善，对相关产业转型升级、高技术企业孵化、高端人才培养与引进具有重大作用。
高端微纳光刻装备对多个产业的发展具有重要作用：
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1. 平板显示和触控屏：用于光掩模版制备、大幅面触摸屏电路图形化光刻，
例如55寸的大尺寸电容触控屏电路制备等。
2. TV超薄背光源（BLU）：平板电脑、液晶显示器、电视机的超薄化趋势，
用于超薄导光板的热压模具制备（例如70寸微透镜金属压印模具）。 3. 高密度柔性电路、IC载板：10μm以下线宽工艺，是下一代集成电路3D
封装必须的关键技术，目前需要0.25微米分辨率的高精度直写光刻设备。
4. MEMS芯片：MEMS芯片制备，需要解决厚胶图形化光刻工艺。 5. 公共安全：特殊微纳结构的视读特征，是实现证卡安全、产品保护、金
融安全等领域公共安全的有效手段。
6. 科研、国家项目需求：微纳加工技术，是诸多科研领域的共性技术，小
型微纳光刻设备，可用于高等院所的实验室，特殊定制的微纳光刻装备，可以服务于国家重大项目。
（五）市场分析：
柔性电子技术已经并将开辟出许多创新的电子产品应用领域，从而，带来一场电子信息技术革命。据IDTechEx预测，2011年柔性电子的市场销售额将高达49.3亿美元，2018年为469.4亿美元，2028年为3010亿美元。
柔性电子制造技术和装备是穿戴式电子、新能源、高端显示、物联网和智能家居领域发展的关键技术，可提供原创性柔性电子器件、知识产权和关键技术，能为新兴市场培育、高层次人才培养提供新机遇，服务并推动相关信息产业的跨越发展。
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二、项目法人基本情况
项目法人的所有制、主营业务，近三年的销售收入、利润、税收、固定资产、资产负债率、银行信用等级、企业技术开发、经营管理、资金筹集、市场开拓等情况。
企业名称：苏州苏大维格光电科技股份有限公司
企业性质： 股份制企业，深交所创业板上市公司（代码：300331） 企业地址：苏州工业园区新昌路68号；资本：9300万人民币
主营业务：激光光刻直写系统与纳米压印装备、LED纳米图形光刻设备、OGS掩膜和灰度光刻设备；光学（镭射）膜：定制光学（镭射）印材、防伪解决方案和材料；平板显示照明：超薄导光板、大尺寸电容触控屏（非ITO）；光掩模板。
公司已于2012年6月在深交所创业板上市（股票代码：300331），银行信用等级：AA级
近三年财务情况： （万元） 年度 2012 2013 2014 销售收入 21871.8 24572.32 27661.86 利润 2459.28 1936.68 3012.93 税收 1871.35 1084.94 2014.46 固定资产 5030.33 12388.6 14087.24 资产负债率 19.16% 16.83% 17.50% 公司建有国家级研究平台“数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心”（国家发改委批准，2011年），设有“江苏省微纳柔性制造工程技术研究中心”（2010年，省政府批准），拥有6000平米用于工程研究和产品中试的实验室。
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图1 公司场地
具有面向新型显示、照明和成像领域的微纳制造工程研发与检测条件。设有四个研发方向：先进光学显示器件、微纳制造技术与装备、柔性材料与器件和纳米印刷技术。公司建有江苏省院士工作站和全国博士后工作站。
图2 国家工程中心和院士工作站
公司拥有国际一流创的新团队，江苏省科技创新团队。重大成果获得：国家科学技术进步二等奖（2011年度）、江苏省科技进步一等奖（2011年度，2007年度）、第十二届、十四届“中国优秀专利奖”（2010年，2012年）、第七届江苏省专利金奖等奖项。为此，公司荣获首届江苏省企业技术创新奖（全省19家企
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