业）。
图3 重大科技获奖
公司拥有授权发明专利49项，其中与本项目相关自主研发设备和技术已获得发明专利16项。
公司建立了以市场为导向、自主创新为推动力的经营管理制度，从产品设计、品质管理、客户沟通与服务、到产品质量体系认证、新品导入与跟踪，有完整的管理制度，力图与国际体系接轨。形成了一个研发、设计、装备改进、制程提升、各户认证的快速反应能力。对于新品导入项目，成立项目领导小组，以董事长为负责人，总经理执行人的项目领导组，协调与处理项目研发、市场实施过程中的各种问题。
业内第一个研发成功并批量化14寸@0.5mm厚度LED超薄导光板卷对卷产线，实现产业应用；
? 发明并实现消色差光学膜的高效光刻方法；
11
? 发明了“宽幅衍射光变图像高速光刻方法与设备”：解决了微纳结构工业化制备的行业难题；
? 率先建立了“微纳柔性制造生产线”，从“微纳结构设计、材料特性研究、重大装备研发和成果产业化”工艺链；
? 第一个研制成功“3D光变图像全息制版系统”实现了全息图像的微纳结构表达，并推进了立体图像的工业化应用；
? 发明“定位激光转移纸张”（印刷第一色概念），实现产业化； ? 第一个研发成功数字化“数码激光全息制版系统”，国内外广泛使用； ? 提出并实现了导模共振纳米光子晶体变色薄膜。
12
三、项目的技术基础
成果来源及知识产权情况，产学研合作情况，已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限，技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势，该项技术的突破对行业技术进步的重要意义和作用。
（一）成果来源及知识产权情况
核心技术来源于苏大维格公司的技术积累和产学研合作，公司在高精度激光微纳米直写和加工技术方面开展了长期研发创新，主要包括微光学元器件开发、纳米精度光机结构研发、4-6轴运动控制技术、CCD影像检测处理技术、海量图形数据处理和传输技术等，为本项目开发积累了大量核心和关键技术。
依托单位是本行业内惟一建有国家工程研究中心“”数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心（国家发改委批准，2011年），表明了行业领先地位。目前，我国唯一具有大面积（微纳金属模具制备能力、能够实现大尺寸纳米尺度图形掩模、配套纳米压印全制程、拥有自主知识产权，目前支持42”尺寸微纳透明导电材料。依托单位在微纳制造装备的应用基础研究、技术创新、材料研发和高端装备研制方面，形成了完整的创新链，并已在多个产业实现规模应用。本项目经过国家重大863专项的支持，已经完成了技术攻关，即将进入产业化阶段。
在激光直写和加工技术领域，获得发明专利授权16项：
专利名称 光学加工系统和方法 光学加工系统和方法 光学加工系统和方法 专利号 ZL 201210114482.4 ZL 201210076397.3 ZL 201210076272.0
13
一种步进式光学加工系统和加工方法 一种透明导电膜及其制作方法 一种光刻装置和光刻方法 一种金属母板的制作方法 一种导光膜制作装置 一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法 并行光刻直写系统 用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头 多视角图形输入的三维图形直写方法 一种彩色滤光片的制作方法与装置 一种精密数字化微纳米压印的方法 ZL 201110323729.9 ZL 201010533228.9 ZL 201010503788.X ZL 201010287422.3 ZL 201010224529.3 ZL 201010224532.5 ZL 201010170978.4 ZL 200910028297.1 ZL 200910028296.7 ZL 200810123711.2 ZL 200710132387.6 对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置 ZL 200610037797.8 衍射光变图像的高速激光直写方法和系统 ZL 200510095775.2 受理发明专利17项。
专利名称 一种导光膜制作装置 APPARATUS FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE FILM 一种紫外固化微纳米结构拼版装置及拼版工艺 三维激光打印方法与系统 分束器件、多光束干涉光路系统 纳米图形化衬底制备装置与方法 一种标签签注方法与系统 连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统 超薄触控传感器及其制作方法 一种三维码及其制作方法 一种激光直写系统与光刻方法 一种变色烫印膜及其制造方法 掩膜版及其制备方法和图形化方法 彩色动态图的激光打印装置及方法 一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 一种多视角像素指向型背光模组及裸眼3D显示装置 基于大面积多台阶二元光学元件的激光直写方法 申请号 PCT/CN2010/079736 US13583290 201310152954.X 201310166341.1 201310234223.X 201310236124.5 201310291009.8 PCT/CN2013/087883 201410037667.9 201410042013.5 201410042111.9 201410062088.X 201410224727.8 201410448548.2 201410621284.6 201410852242.3 201510012577.9 软件著作权4项：
14
登记号 2011SR037129 2011SR037127 2011SR041635 2015SR017923 软件名称 基于DXF的并行激光直写加工图形处理软件V1.0 基于DirectX的空间光调制器图形发生软件V1.0 苏大维格频闪曝光直写系统 HoloMakerIIIC SystemV1.0 获奖清单如下：
项目名称 大幅面微纳图形制造技术及产业化应用 卷对卷纳米压印关键技术及应用 面向微纳柔性制造的创新工程 衍射光变图像高速制作方法与系统 微光变图像的激光直写方法及装置 宽幅智能激光SLM光刻系统与应用 亚波长光学制造技术研究与应用 一种消色差变色银衍射图像的制作方法 微结构制造的高效光刻技术与应用
奖励名称 国家科技进步二等奖 江苏省科学技术进步一等奖 江苏省企业技术创新奖 中国专利优秀奖 中国专利优秀奖 江苏省科学技术进步一等奖 教育部科学技术进步二等奖 江苏省专利金奖 教育部技术发明二等奖 获批时间 2011.12 2012.2 2012.2 2010.11 2012.11 2008.5 2008.1 2011.12 2009.1 （二）产学研合作情况
“十二五”期间，在国家高技术研究（863计划）计划重大项目、国家自然基金重点项目的资助下，苏州苏大维格光电科技股份有限公司与相关业内企业和高校协同合作，攻克了“微纳柔性制造工艺装备”、“3D成像纳米印刷技术”、“彩色全息显示的基础问题”方面关键基础问题和技术难题，取得国内外瞩目的重大成果，引起国内外同行的高度关注。
第一，前瞻性重大技术创新取得突破。从原理上，现有的技术手段（如金刚石加工仅能加工柱光栅膜的模具）不能加工全息原理的裸眼3D显示，必须突破纳米加工技术瓶颈。苏大维格在高端微纳装备及关键技术方面取得重大研究进展，在国际上率先实现“四独立变量微纳结构快速制造”、“大幅面微纳混合光刻”等
15