01常用半导体器件(3)

2020-04-14 22:58

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双极型半导体三极管是由两种载流子参与导电的半导体器件,它由两个 PN 结组合而成,是一种CCCS器件。

场效应型半导体三极管仅由一种载流子参与导电,是一种VCCS器件。

1.3.1晶体管的结构及类型

双极型半导体三极管的结构示意图如图所示。它有两种类型:NPN型和PNP型。中间部分称为基区,相连电极称为基极,用B或b表示(Base); 一侧称为发射区,相连电极称为发射极,用E或e表示(Emitter); 另一侧称为集电区和集电极,用C或c表示(Collector)。 E-B间的PN结称为发射结(Je), C-B间的PN结称为集电结(Jc)。

两种极性的双极型三极管

双极型三极管的符号在图的下方给出,发射极的箭头代表发射极电流的实际方向。从外表上看两个N区(或两个P区)是对称的,实际上发射区的掺杂浓度大,集电区掺杂浓度低,且集电结面积大。基区要制造得很薄,其厚度一般在几个微米至几十个微米。

1.3.2 晶体管的电流放大作用

双极型半导体三极管在工作时一定要加上适当的直流偏置电压。若在放大工作状态:发射结加正向电压,集电结加反向电压。现以 NPN型三极管的放大状态为例,来说明三极管内部的电流关系。

双极型三极管的电流传输关系(动画2-1)

发射结加正偏时,从发射区将有大量的电子向基区扩散,形成的电流为IEN。与PN结

中的情况相同。从基区向发射区也有空穴的扩散运动,但其数量小,形成的电流为IEP。这是因为发射区的掺杂浓度远大于基区的掺杂浓度。

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进入基区的电子流因基区的空穴浓度低,被复合的机会较少。又因基区很薄,在集电结反偏电压的作用下,电子在基区停留的时间很短,很快就运动到了集电结的边上,进入集电结的结电场区域,被集电极所收集,形成集电极电流ICN。在基区被复合的电子形成的电流是 IBN。

另外,因集电结反偏,使集电结区的少子形成漂移电流ICBO。于是可得如下电流关系式:

IE= IEN+ IEP 且有IEN>>IEP

IEN=ICN+ IBN 且有IEN>> IBN , ICN>>IBN IC=ICN+ ICBO IB=IEP+ IBN-ICBO

IE=IEP+IEN=IEP+ICN+IBN=(ICN+ICBO)+(IBN+IEP-ICBO)=IC+IB

以上关系在图02.02的动画中都给予了演示。由以上分析可知,发射区掺杂浓度高,基区很薄,是保证三极管能够实现电流放大的关键。若两个PN结对接,相当基区很厚,所以没有电流放大作用,基区从厚变薄,两个PN结演变为三极管,这是量变引起质变的又一个实例。

双极型半导体三极管的电流关系

(1) 三种组态

双极型三极管有三个电极,其中两个可以作为输入, 两个可以作为输出,这样必然有一个电极是公共电极。三种接法也称三种组态,见图02.03。

共发射极接法,发射极作为公共电极,用CE表示; 共集电极接法,集电极作为公共电极,用CC表示; 共基极接法,基极作为公共电极,用CB表示。

图02.03 三极管的三种组态

(2) 三极管的电流放大系数

对于集电极电流IC和发射极电流IE之间的关系可以用系数来说明,定义: ?= ICN/IE

?称为共基极直流电流放大系数。它表示最后达到集电极的电子电流ICN与总发射极电流IE的比值。ICN与IE相比,因ICN中没有IEP和IBN,所以?的值小于1, 但接近1。由此可

得:

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IC=ICN+ICBO=?IE+ICBO=? (IC+IB)+ICBO IC =定义:

I?IB?CBO 1??1???=IC /IB=(ICN+ ICBO )/IB

ICI?I1?(B?CBO) IB1??1??IB?称为共发射极接法直流电流放大系数。于是

?=

≈(?IB1) 1??IB =因?≈1, ∴ ? >>1

? 1??1.3.3 晶体管的共射特性曲线

本节介绍共发射极接法三极管的特性曲线,即 输入特性曲线—— iB=f(vBE)?

vCE?const

输出特性曲线—— iC=f(vCE)?iB?const

这里,B表示输入电极,C表示输出电极,E表示公共电极。所以这两条曲线是共发射极接法的特性曲线。

iB是输入电流,vBE是输入电压,加在B、E两电极之间。 iC是输出电流,vCE是输出电压,从C、E两电极取出。 共发射极接法的供电电路和电-压电流关系如图02.04所示。

共发射极接法的电压-电流关系

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(1)输入特性曲线

简单地看,输入特性曲线类似于发射结的伏安特性曲线,现讨论iB和vBE之间的函数关系。因为有集电结电压的影响,它与一个单独的PN结的伏安特性曲线不同。 为了排除vCE的影响,在讨论输入特性曲线时,应使vCE=const(常数)。vCE的影响,可以用三极管的内部的反馈作用解释,即vCE对iB的影响。

共发射极接法的输入特性曲线见图。其中vCE=0V的那一条相当于发射结的正向特性曲线。当vCE≥1V时, vCB= vCE - vBE>0,集电结已进入反偏状态,开始收集电子,且基区复合减少, IC / IB增大,特性曲线将向右稍微移动一些。但vCE再增加时,曲线右移很不明显。曲线的右移是三极管内部反馈所致,右移不明显说明内部反馈很小。

共发射极接法输入特性曲线

输入特性曲线的分区:死区、非线性区、线性区。

(2)输出特性曲线

共发射极接法的输出特性曲线如图所示,它是以iB为参变量的一族特性曲线。现以其中任何一条加以说明,当vCE=0 V时,因集电极无收集作用,iC=0。当vCE微微增大时,发射结虽处于正向电压之下,但集电结反偏电压很小,如vCE< 1 V;vBE=0.7 V; vCB= vCE- vBE≤0.7 V 。集电区收集电子的能力很弱,iC主要由vCE决定。当vCE增加到使集电结反偏电压较大时,如vCE ≥1 V, vBE ≥0.7 V,运动到集电结的电子基本上都可以被集电区收集,此后vCE再增加,电流也没有明显的增加,特性曲线进入与vCE轴基本平行的区域 (这与输入特性曲线随vCE增大而右移的原因是一致的) 。

输出特性曲线可以分为三个区域

饱和区——iC受vCE显著控制的区域,该区域内vCE的数值较小,一般vCE<0.7 V(硅管)。此时发射结正偏,集电结正偏或反偏电压很小。

截止区——iC接近零的区域,相当iB=0的曲线的下方。此时,发射结反偏,集电结反偏。

放大区——iC平行于vCE轴的区域,曲线基本平行等距。此时,发射结正偏,集电结反15

偏,电压大于0.7 V左右(硅管)

共发射极接法输出特性曲线(动画2-2)

1.3.4 晶体管的主要参数

半导体三极管的参数分为直流参数、交流参数和极限参数三大类。

(1) 直流参数

① 直流电流放大系数

1.共发射极直流电流放大系数?

? =(IC-ICEO)/IB≈IC / IB ? vCE?const

在共发射极输出特性曲线上,通过垂直于X轴的直线(vCE=const)? 在放大区基本不变。

来求取IC / IB ,如图所示。在IC较小时和IC较大时,会有所减小,这一关系见图02.08。

在输出特性曲线上决定? 2.共基极直流电流放大系数?

?值与IC的关系


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