测得X射线的波长，进而测定其化学成分。
（4）俄歇电子能谱法。俄歇电子的动能为E，由能量守恒定律Ek-EL1=EL23+E，近似EL1=EL23，得俄歇电子的动能E=Ek-2EL。对于每种元素的原子来说，EL1、EL23都有不同的特征值，只要测出电子动能E，就可以进行元素鉴定。利用俄歇电子能谱法中的化学位移效应不但可以鉴定样品的组分元素还可鉴定它的化学状态。
（5）X射线光电子能谱法。X射线入射到自由原子的内壳层上，将电子电离成光电子，有电子能量分析测得光电子束缚能，不同源自或同一原子的不同壳层有不同数量的特征值。可以通过元素鉴定测出。
（6）二次离子质谱法。二次离子质谱是利用质谱法分析初级离子入射靶面后，溅射产生的二次离子而获取材料表面信息的一种方法。二次离子质谱可以分析包括氢在内的全部元素，并能给出同位素的信息，分析化合物组分和分子结构。 《薄膜物理与技术》 1、
薄膜的定义 薄膜的制备方法 真空的定义及性质（理想气体状态方程） 真空的单位 真空区域的划分
气体的三种速度分布（最可几速度、平均速度、均方根速度）意义 平均自由程的定义及计算 余弦散射定律及意义 确定真空系统所能达到的真空度的方程 2、 主要真空泵的排气原理与工作范围 几类真空计的工作原理与测量范围（填空或选择） 真空蒸发镀膜的定义 真空蒸发镀膜的基本过程 3、 蒸发速率的表达式及蒸发源温度变化引起蒸发速率的变化 蒸发过程的几点假设 几种最常用的蒸发源及膜厚分布状况 4、 蒸发源的类型 电子束蒸发源中电子束的加热原理及特点 高频感应蒸发源的特点 合金的蒸发中组元金属的蒸发速率之比
5、 合金及化合物的蒸发方法 特殊的蒸发方法 膜厚的定义 膜厚的测量方法（尤其是原理：石英晶体振荡法、电离式监控计法光干涉法） 溅射镀膜的定义 溅射镀膜的优点及缺点 直流辉光放电的区域 辉光放电过程中，如何确定阴极与阳极之间的距离 6、 射频放电的频率 溅射阈值、溅射率、溅射过程 溅射的两种理论 溅射镀膜的类型（重点为二极式、磁控式、射频式）
离子镀膜的定义 离子镀膜的成膜条件（公式的计算） 离子镀膜的特点 离子轰击的作用 离子镀的类型（活性反应离子镀、射频离子镀） 化学气相沉积的定义 CVD的装置组成 CVD反应的类型 CVD法制备薄膜的过程 CVD的特点
7、 CVD反应体系的条件 低压化学气相沉积的原理 等离子体化学气相沉积（定义及原理） 等离子体的作用 8、 有机金属化学气相沉积、光CVD、电子回旋共振等离子体沉积 溶液镀膜法的定义 化学镀的定义及原理 9、 化学镀与化学沉积的异同点 如何进行化学镀镍、铜、银等金属 溶胶－凝胶法制备薄膜的工艺（至少三种） 10、阳极氧化法的定义及原理 阳极氧化法中氧化物薄膜厚度的计算公式 电镀的定义与原理
11、电镀过程中补充电极附件区域的离子的方法 对电镀层的要求 LB制备的定义及原理 LB膜的分类 薄膜的形成与生长形式 薄膜的结构类型薄膜的缺陷 薄膜的组织结构