OPTORUN离子源的维护保养说明
1．离子源的维护和Grid的分解和组装方法
长时间运转後，石英杯内会被镀上一层的导电性膜，因此会引起输出功率下降，此时请进行打砂处理或使用洗净液（请使用不影响SiO2的洗净液）等除去膜层。
石英杯的清扫周期通常是50~100小时。（根据使用状况更改维护的周期）。
注意：请注意石英杯很容易损坏。 在对石英杯进行打砂时，请使用粒度＃100的Al粒子，并保持0.1～0.2M
Ｐａ的低压力，离石英杯30cm以上进行打砂作业。
1．1 绝缘子的清洁
长时间使用后，Grid Assy部分的绝缘子会被镀上一层的导电性膜，此会引起Grid的短路，不能正常发挥作用。并会出现ACC电流值过大或Beam电流上不去的现象，此时需清洁或交换绝缘子。由于绝缘子的清洁难度很大，建议您交换新品。
注意：确认各Grid间，2000Vdc时须20MΩ以上。 ①
② 维护和交换时期
各Grid间绝缘子的状态呈恶化趋势时，用打砂纸清洁其外表部。
Grid维护周期为每50~100小时确认其外观?绝缘，如有异常请及时清扫或交换。如厚度有磨损，其磨损厚度为-0.02mm时，请交换新品。 （例如：t=1.0mm的绝缘子当变为t=0.98mm时，请交换新品。） 注意：请注意绝缘子很容易碎裂。
1．2 Grid的清洁
长时间使用后，各Grid的被镀上一层的导电性膜，特别是 Decel Grid膜层很容
易被剥离，请在不对着Grid的情况下用吸尘器除去的剥落的膜。ACC Grid和SCR Grid请用测试仪点检，表面被绝缘时请及时清洗。 注意：Grid的分解和组装方法请参考添附资料。 1) 浓度25%的洗净液（BR-55）里浸泡5~10小时。
（作为代替品25%的NaOH水溶液也可使用，但是洗净效果略差。） 或者使用超声波洗净机，能得到同样的洗净效果。 注意：BR-55和NaOH为危险物品，使用时请小心。
用超声波洗净机时请注意Grid由于振动所引起的破损。
2) 边用热水清洗边用清洁布擦洗Grid表面，约洗10分钟以上，NaOH和赃物等将被洗净。
3) 用干燥机干燥。
4) 利用Grid固定夹具（参考照片1，2），并使用#300的砂纸摩擦Grid表面直到表面的赃物和变色消失为止。 注意：不要使Grid变形。
照片１ Grid固定夹具(击側) 照片2 Grid固定夹具(凹側)
5) 再用热水清洗并用清洁布擦洗Grid表面，约洗20分钟以上，洗净附着的NaOH和赃物等。
6) 用Air Gun吹散Grid上的水分。
注意：使用Air Gun时注意使用不含油的清洁空气。压力在0.05～0.1Mpa之间
以防Grid变形。
7) 用干燥机干燥后，维护清洗结束。
注意：作业中须谨慎，以防止Grid的变形和破损。
本清洗仅对酸化膜(SiO2、Ta2O5)有效，因使用状态不同，也会出现洗不净的场合。
2．中和器的维护方法
（1） 放电室（陶瓷放电室、陶瓷盘）的清扫 长时间运转后，放电室内会被镀上导电性膜，因此会引起放射电流下降
需较高RF输出,此时用打砂的方式去除膜层。但要注意不要损伤陶瓷放电室和陶瓷盘的接触面，以免漏气。打砂时请注意用胶带等进行保护。
注意：有关分解，组装请参考添附资料。
请注意不要破坏放电室上绕着的线圈的形状，转动放电室然后再取
下。
（2） RFN收集器(Collector)的清扫
长时间运转后，collector表面被氧化或形成其它绝缘膜，因此会引起
发射电流下降,并且启动困难，此时用打砂的方式去除膜层。
注意：不要使收集器(Collector)变形。组装时要尽量减少陶瓷放电室和collector之间的缝隙。
（3） Keeper和中和器主体的清扫
长时间运转后，keeper表面形成绝缘膜，因此会使动作不安定。请使用测试仪确
认附资料1 离子源 Grid的分解和组装方法
※ 请参照添附图纸进行作业。 分解１ 拆下Grid Mount Assy. Grid Mount Assy.
作業内容 从离子源主体上拆下Grid Mount Assy. 注意点
分解２ 拆下Quartz Chamber Quartz Chamber Mount Ring 作業内容 先拆下六角螺钉，然后拆下石英杯Quartz Chamber和Mount Ring。 注意点 请注意石英杯很容易碎裂。 分解３ 六角螺母（M4） 六角螺钉 Grid Mount Plate （M5×L8―４个） 六角螺钉（M4×L6） 作業内容 拆下六角螺钉和六角螺母后再将Grid Mount Plate拆下。 注意点 拆下Grid Assy. 1