半导体物理作业及答案(4)

2019-08-03 13:44

用其面积乘以状态密度

2S就是椭圆内所包含的状态: 2(2?)??ESmxmy2S?ab? Z(E)? 22(2?)??Z(E)表示能量在E以下状态的数目,如果能量增加dE,则Z(E)增加d Z(E), dZ(E)就是能量E到E+dE之间的状态数。

对上式求微分即得,单位能量间隔内的状态数,即状态密度为:

dZ(E)g(E)??dE

??Smxmy??2

2、有一硅样品,施主浓度为Nd?2?1014/cm3,受主浓度为NA?1014/cm3,已知施主电离能

?ED?EC?ED?0.05eV,试求99%的施主杂质电离时的温度。

解:

????p0?ND令ND表示电离施主的浓度,则电中性方程为n0?NA ??NA(受主杂质全部电离) 略去价带空穴的贡献,则得n0?ND

?E?EFn0?Ncexp??Ck0T?153?? ? 对硅材料

Nc?5.6?10T2

??0.99ND,则 由题意可知ND?E?EF30.99ND?NA?5.6?1015T2exp??Ck0T??? (1) ?当施主有99%的电离时,说明只有1%的施主有电子占据,即f(ED)?0.01。

f(ED)?1?0.01

?ED?EF?11?exp??2kT0???E?EFexp?D?k0T???198 ?所以EF?ED?k0Tln198,代入式(1)得

?EC?ED?k0Tln198?0.99ND?NA?5.6?10Texp???

kT0??1532取对数并加以整理即得到如下方程:

T?5793lnT?1.212

按照例4中提供的方法的算得 T=101.8(K)

2、 现有3块半导体硅材料,已知再室温下(300K)它们的空穴浓度分别为

p01?2.25?1016/cm3,p02?1.5?1010/cm3,p03?2.25?104/cm3。

(1) 分别计算这3块材料的电子浓度n01,n02,n03; (2) 判别这3块材料的导电类型;

(3) 分别计算这3块材料的费米能级的位置。 解:

(1)设室温是硅的Eg?1.12eV,ni?1.5?1010/cm3。根据载流子浓度乘积公式n0p0?ni2可求出

ni2n0?

p0

n01?n??1?104/cm3 16p012.25?102i?1.5?1010?2

n02??1.5?10??1.5?1010/cm3 n?p021.5?10102i102

n03?n??1?1016/cm3 4p032.25?102i?1.5?1010?2 (2)因为p01?n01,即2.25?1016?1?104/cm3,故第一块为p型半导体。 因为p02?n02,即ni?n01?p01?1.5?1010/cm3,故第一块为本征型半导体。

因为p03?n03,即2.25?104?1?1016/cm3,故第一块为n型半导体。 (3)当T=300K时,k0T?0.026eV 由

?E?EFp0?niexp?i?k0T?? ?得

Ei?EF?k0Tlnp0 ni对3块材料的费米能级位置分别计算如下。

2.25?1016 ① Ei?EF?0.026ln?0.026?14.2?0.37?eV? 101.5?10即p型半导体的费米能级再禁带中线下0.37eV处。

101.5?10 ②因为 n02?p02?in?c/m 3所以Ei?EF?0即费米能级位于禁带中心位置。

?E?Ei ③对n型材料有 n0?niexp?F?k0T?? ?所以

n01016?0.026?13.4?0.35?eV? EF?Ei?k0Tln?0.026lnni1.5?1010即对于n型材料,费米能级在禁带中心线上0.35eV处。

3、 在一掺硼的非简并p型硅中,含有一定的浓度铟,室温下测出空穴浓度p0?1.1?1016/cm3。已知掺硼浓度NA1?1016/cm3,其电离能?EA1?EA1?EV?0.045eV,铟的电离能

?EA2?EA2?EV?0.16eV,试求这种半导体中含铟的浓度。室温下硅的NV?1.04?1019/cm3。

解:对非简并p型硅

?EF?EVp0?Nvexp???kT0???? ? EF?EV?k0TlnNV p0代入数据

1.04?1019 EF?EV?0.026ln1.1?1016EF?EV?0.178(eV)

由题中已知条件可得

8 EF?EA1?0.17?0.?0450.eV1 33()

EF?EA2?0.178?0.13?0.018(eV)

价带空穴p0是由两种杂质电离后提供的,即 p0?NA1?E?EF1?2exp?A1?k0TNA2??EA2?EF1?2exp????k0T????

所以 NA2??NA1??p0???EA1?EF1?2exp????k0T??????1?2exp?EA2?EF??????k0T????????? ??带入已知数据求得NA2?2.3?1015/cm3,即半导体中含铟的浓度约为2.3?1015/cm3。

?EF?Ei4、证明: n0?niexp??KBT??Ei?EFp?nexp, ??0i??KBT?? ?方法一: n0?NCexp?(EC?EF )KBTF ?NCexp?(EC?EiE?E)e?xp(iKBTKBT )E?Ei ?niexp(F )KBT p0?NVexp?(EF?EV )KBTEi?EVKBTE?Ei)e?xp(F

KBT) ?NVexp?(E?EF ?niexp(i )

KBT方法二: n0?NCexp?(EC?EF )KBT11EF?EC?EVEc?EVNV?122 ?(NCNV)exp(?)exp()()2 2KBTKBTNC12NV111E?E?E?KTlnFCVB1E?E222NCV)exp() ?(NCNV)2exp(?c2KBTKBTE?Ei ?niexp(F )KBT 由n0p0?ni2可得:p0?nie方法三:由n0?NCexp(??NEC?EF)?ni?CKBT?niEC?EiKBT?NC??)?i??nEi?EFKBT

?EC?Ei?Ei?EFexp(?) ?KBT? ?niexp?(?NC证得??niE?EFe?xp(i )KBT?Ei?EF)?1亦可。 ?exp(?KBT?其他方法:亦可利用

?mdpKBT??mKT?,, N?2NC?2?dnB?V2?2??2????2???1mdpE?EV13Ei?(EC?EV)?KBTln)。 ,ni??NCNV?2exp(?c24mdnKBT3232可得


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