第一章 - - 半导体的物质结构和能带结构课后题答案(4)

2019-08-03 11:11

s1?10?4t???1?10?11s7v10

17、已知某半导体的电导率和霍尔系数分别为1 ??cm和-1250 cm2/C,只含一种载流子,

求其密度与迁移率。

解:因为单载流子霍尔系数RH<0,所以其为n型半导体

RH??根据公式

11115?2n?????5?10cmqRH1.6?10?19?(?1250)nq可得

根据

??nq?n可得

?n??nq?12?1250cm/V?s15?195?10?1.6?10

18、已知InSb的μn=75000 cm2/V.s,μp=780 cm2/V.s,本征载流子密度为1.6×1016 cm-3,求

300K时本征InSb的霍耳系数和霍尔系数为零时的载流子浓度。

1p?nb2RH?2q(p?nb)解:根据两种载流子霍尔效应公式

RH? 本证半导体霍尔系数 当T=300K时,b=96.15

?1?bb?n?pqni(1?b),其中

1p?nb211.6?1016?1.6?1016?96.152RH????383cm3/C216162q(p?nb)1.6?10?19(1.6?10?1.6?10?96.15) 此时

2p?nb?0,而且np?ni 当霍尔系数RH=0时,有

2ni1.6?1016n???1.66?1014cm?3b96.15 有上面两式可得

214218?3p?nb?1.66?10?96.15?1.53?10cm

19、求掺杂浓度按ND(x)=1016-1019x变化的半导体在300K热平衡状态下的感生电场。 解:电场随位置变化的关系如下:

Ex??(kT1dND(x))qND(x)dx

dND(x)??1019其中ND(x)=1016-1019x,可以推出dx ?0.026?(?1019)Ex?(1016?1019x) 带入上式可得

当x=0时,E=25.9V/cm

当x=1时,E=-26V/cm

20、根据维德曼—弗兰茨定律求本征Si和本征GaAs的室温热导率,与表2-3中的相关

数据相比较,试对比较结果做出合理解释。

?C?LT???LT?niq(?n??p)LT? 解:根据可得,C

对本征半导体,若只考虑长声学波对载流子的散射,L =2(k/q)2=1.49×10-8 V2/K2

所以可得 Si:

kc?niq(?n??p)LT?1.5?1010?1.6?10?19?(1350?500)?1.49?10?8?300?11?9?1.98?10W/(cm?K)?1.98?10W/(m?K)

GaAs:

kc?niq(?n??p)LT?1.1?107?1.6?10?19?(8000?400)?1.49?10?8?300?14?12?6.6?10W/(cm?K)?6.6?10W/(m?K)

结果说明晶格起主要热导作用,而载流子主要起导电作用。

第3章 非热平衡状态下的半导体

5、对硼浓度为NA=5×1016cm-3的Si样品,室温下一恒定光源在其中均匀地产生密度为1015cm-3、寿命为5μs的额外载流子。请问:(a)此Si样品的少子是什么导电类型?(b)光照关闭后10μs时少子密度还有多少? 解:(a)此样品的少子导电类型是n型。

(b)已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为

?n(t)??ne?t/?

将?n?1015cm-3,??5?s,t?10?s代入公式可得

?n(t)??ne?t/??1015?e?105?1.35?1014(cm?3)

因此剩余的少子浓度为10?1.35?101514?8.65?1014(cm?3)

2、 接上题,若该样品光照前(t<0)处于热平衡状态,从光照开始时(t=0时刻)计时,求:(a)光生载流子的产生率; (a)光照开始后t时刻的少数载流子密度。 解:(a)根据光生载流子的产生率关系可知:

?n??G

10158?3?1??2?10cm?s 因此产生率G? ?6?5?10?n (b)已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为

?n(t)??ne?t/?

光照开始后t时刻的少数载流子密度为?n(1?e?t?)?1015(1?e?t5)

3、 对ND=5×1016cm-3的Si样品,室温下一恒定光源在其中均匀地产生额外载流子,产生率G=5×1021 cm-3s-1。试确定额外载流子的产生过程中,该样品电导率随时间的变化规律。设τn=10-6s,τ=10-7s,μn=1000cm2/V.s,μp=420cm2/V.s。 解:根据题目条件可知此样品的少子是空穴。 设施主杂质全部电离,则无光照时的电导率

?0?n0q?n?5?1016?1.6?10?19?1000?8(scm)

有光照时增加的电导率为

????nq(?n??p)?G?ne?t?q(?n??p)

代入数据得???5?10?10e21?6?t10?7?1.6?10?19?(1000?420)?1.136e?t10

?t10?7?7因此样品的电导率随时间变化关系是:????0?8?1.136e

(scm)

4、 一受主浓度为5?1014cm-3的p型Si样品,额外载流子的注入使其EFn-EF=0.01 kT,请问

是大注入还是小注入?若注入使得EF-EFp=0.01kT,情况又如何? 解:非平衡状态下电子的浓度公式为:

EFn?EFni214?3,p0?NA?5?10cm n?n0exp(),其中no?p0kTEFn?EFni2(1.0?1010)20.01kT5?3exp()?exp()?6.6?10cm代入数据得n? 14p0kT5?10kT因为?n?n?n0?6.6?10?2?10?4.6?10cm因此是小注入。 非平衡状态下空穴的浓度公式为:

555?3p?p0exp(EF?EFpkT)?5?1014exp(0.01kT)?7.35?1014cm?3 kT?p?p?p0?7.35?1014?5?1014?2.35?1014cm?3所以是大注入。

5、 T=300K时,某n型半导体的n0=1015cm-3,ni=1.5?1010cm-3。在非平衡状态下,假设额外载流子的密度为△n=△p= 1013cm-3,试计算准费米能级的位置。 解:由平衡态电子密度和空穴密度的乘积关系p0n0?ni可以算出

2ni2(1.5?1010)25?3p0???2.25?10cm 15n010再由电子浓度和费米能级关系知:n?n0??n?niexp(得:EFn?Ei?kTln(EFn?Ei) kTn0??n)带入数据可得: niEFn?Ei?0.228eV

由空穴浓度和费米能级关系知:p?p0??p?niexp(Ei?EFpkT)

得:Ei?EFp?kTln(p0??p)带入数据可得: niEFp?Ei?0.168eV

6、 在NA=5?1016cm-3的p型Si中注入密度为0.1NA的额外载流子,求室温下准费米能级的位置。

解:假设杂质全部电离,故可得p0=NA=5?1016cm-3

由平衡态电子密度和空穴密度的乘积关系p0n0?ni可以算出

2ni2(1.5?1010)23?3n0???4.5?10cm 16p05?10由电子浓度和费米能级关系知:n?n0??n?niexp(EFn?Ei)得:kTEFn?Ei?kTln(带入数据可得:

n0??n),其中?n??p?5?1015cm?3 niEFn?Ei?0.27eV

由空穴浓度和费米能级关系知:p?p0??p?niexp(Ei?EFpkT)

得:Ei?EFp?kTln(p0??p)带入数据可得: niEFp?Ei?0.39eV

7、 NA=1016cm-3的p型砷化镓样品,室温下50μm内额外载流子密度由1014cm-3均匀下降为

0,试计算准费米能级相对于本征费米能级的变化。

解:

8、 对含有单一复合中心的本征半导体,若复合中心能级与本征费米能级重合,求额外载流子的寿命。

解:单一复合中心的本征半导体,额外载流子寿命为

?prn(n0?n1??p)?rp(p0?p1??p)???

UNtrprn(n0?p0??p)

对于本征半导体错误!未找到引用源。, 又因为复合中心能级与本征费米能级重合 所以复合中心浓度

Nt?n0?p0?n1?p1

所以???prn?rp? Unirprn9、 热平衡状态下,某半导体的p0=1016cm-3、ni=1.5×1010cm-3,少子寿命为2×10-7s。(a)确定电子的热平衡复合率。(b)如果额外电子的密度△n = 1012cm-3,那么电子的复合率改变了多少? 解:(a)由热平衡态电子密度和空穴密度的乘积关系p0n0?ni可以算出

2ni2(1.5?1010)24?3n0???2.25?10cm 16p0102.25?104故电子的热平衡复合率U1???1.125?1011cm?3?s?1 ?7?2?10n0101218?3?1根据复合率的定义U2? ??5?10cm?s?7?2?10?n改变的大小为?U?U2?U1?U2?5?10cm?s

10、 硅中杂质磷的浓度为1017cm-3,硅棒的末端(x=0)产生过剩电子和空穴,少子的寿命

为1μs,电子的扩散系数为Dn=25cm2/s,空穴的扩散系数为Dp=10cm2/s。若△n(0)=△p(0)= 1015cm-3,试确定稳态时x>0处电子的浓度和空穴的浓度。 解:由于?n??n0错误!未找到引用源。所以是小注入 对于n型半导体,小注入条件下

18?3?1??11?6??11?10s 17rn010?10


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